It is an object of the present invention to provide a high-reliability semiconductor device having a storage capacitor and wiring using copper for a main conductive film. Under the above object, the present invention provides a semiconductor device comprising: a semiconductor substrate; a storage capacitor formed on the main surface side of the semiconductor substrate and being a first electrode and a second electrode arranged so as to put a capacitor insulation film; a wiring conductor formed on the main surface side of the semiconductor substrate and including the copper (Cu) element; and a first film formed on the surface of the wiring conductor; wherein a material configuring the first film and a material configuring the first electrode and/or the second electrode include the same element.

Будет предметом присытствыющего вымысла для того чтобы обеспечить прибора на полупроводниках высок-nadejnosti имея конденсатор хранения и связывая проволокой использующ медь для главной проводной пленки. Под вышеуказанным предметом, присытствыющий вымысел обеспечивает прибора на полупроводниках состоя из: субстрат полупроводника; конденсатор хранения сформировал на главным образом поверхностной стороне субстрата и быть полупроводника первым электродом и вторым электродом аранжированные, что положил пленку изоляции конденсатора; проводник проводки сформировал на главным образом поверхностной стороне субстрата и вклюать полупроводника медный элемент (cu); и первая пленка сформировала на поверхности проводника проводки; при котором материал устанавливая первую пленку и материал устанавливая первый электрод and/or второй электрод вклюают такой же элемент.

 
Web www.patentalert.com

< Semiconductor integrated circuit

< Method for removing contaminants from a semiconductor wafer

> Iridium composite barrier structure and method for same

> Reference voltage generation for memory circuits

~ 00089