A processor for processing articles, such as semiconductor wafers, includes an enclosure defining a substantially enclosed clean processing chamber and at least one processing station disposed in the processing chamber. An interface section is disposed adjacent an interface end of the enclosure. The interface section includes at least one interface port through which a pod containing articles for processing are loaded or unloaded to or from the processor. An article extraction mechanism adapted to seal with the pod removes articles from the pod without exposing the articles to ambient atmospheric conditions in the interface section. The article processor also preferably includes an article insertion mechanism adapted to seal with a pod in the interface section. The article insertion mechanism allows insertion of the articles into the pod after processing by at least one processing station.

Un procesador para procesar los artículos, tales como obleas de semiconductor, incluye un recinto definiendo un compartimiento de proceso limpio substancialmente incluido y por lo menos una estación de proceso dispuestos en el compartimiento de proceso. Una sección del interfaz es adyacente dispuesto un final del interfaz del recinto. La sección del interfaz incluye por lo menos un puerto del interfaz a través de el cual una vaina que contiene los artículos para procesar se cargue o se descargue a o desde el procesador. Un mecanismo de la extracción del artículo adaptado al sello con la vaina quita los artículos de la vaina sin exponer los artículos a las condiciones atmosféricas ambiente en la sección del interfaz. El procesador del artículo también incluye preferiblemente un mecanismo de la inserción del artículo adaptado al sello con una vaina en la sección del interfaz. El mecanismo de la inserción del artículo permite la inserción de los artículos en la vaina después de procesar por por lo menos una estación de proceso.