On substrates 2a, 2b of a chiral nematic liquid crystal optical element 1, transparent electrodes 3a, 3b and electrical insulation layers 4a, 4b are formed, and further, resin layers 5a, 5b having a pencil hardness of "B" or less are formed on the electrical insulation layers by a spin coating method so as to be in contact with a liquid crystal layer 7. When the surface hardness of the resin layers is to be measured, a glass substrate on which a resin layer is formed by screen-printing is prepared as a test piece, and the test piece is fitted to a pencil-scratching tester. The surface hardness is measured by scratching the test piece with two kinds of testing pencil selected from testing pencils having 17 grades of density.

En los substratos 2a, 2b de un elemento óptico cristalino líquido nematic chiral 1, electrodos transparentes 3a, 3b y capas eléctricas 4a del aislamiento, se forman 4b, y capas más futuras, de la resina 5a, 5b que tiene una dureza del lápiz de "B" o de menos son formadas en las capas eléctricas del aislamiento por un método de capa de la vuelta para estar en contacto con una capa cristalina líquida 7. Cuando la dureza superficial de las capas de la resina debe ser medida, un substrato de cristal en el cual una capa de la resina es formada pantalla-imprimiendo está preparado como un pedazo de la prueba, y el pedazo de la prueba se cabe a un probador de la'piz-rasguño. La dureza superficial es medida rasguñando el pedazo de la prueba con dos clases de lápiz de prueba seleccionadas de los lápices de prueba que tienen 17 grados de densidad.