A wafer transfer apparatus includes a robot arm and a robot arm cleaning device that injects purge gas into a vacuum nozzle of the robot arm under a normal stand-by state wherein the robot arm does not suction a wafer, to clean the vacuum nozzle. The robot arm cleaning device comprises a solenoid valve adapted to supply and intercept air, a first air valve adapted to selectively maintain and release a vacuum state in response to the air supplied from the solenoid valve, and a second air valve adapted to selectively supply and intercept a purge gas in response to the air supplied from the solenoid valve. The robot arm holds a wafer by a vacuum state of the vacuum nozzle when the first air valve is opened, and the vacuum nozzle is cleaned by the purge gas supplied when the second air valve is opened.

Un appareillage de transfert de gaufrette inclut un bras de robot et un dispositif de nettoyage de bras de robot qui injecte le gaz de purge dans un bec de vide du bras de robot sous un état de réserve normal où le bras de robot pas aspiration une gaufrette, pour nettoyer le bec de vide. Le dispositif de nettoyage de bras de robot comporte une valve de solénoïde adaptée à l'air d'approvisionnement et d'interception, une première soupape à air adaptée sélectivement pour maintenir et libérer un état de vide en réponse à air à partir de la valve de solénoïde, et une deuxième soupape à air adaptée à sélectivement assurent et arrêtent un gaz de purge en réponse à air à partir de la valve de solénoïde. Le bras de robot tient une gaufrette par un état de vide du bec de vide quand la première soupape à air est ouverte, et le bec de vide est nettoyé par le gaz de purge assuré quand la deuxième soupape à air est ouverte.