A defect inspecting apparatus is disclosed that can detect finer defects
with high resolution optical images of those defects, and which makes the
difference in contrast greater between fine line patterns of a
semiconductor device. The defect inspecting apparatus includes a sample
mounting device for mounting a sample; lighting and detecting apparatus
for illuminating a patterned sample mounted on a mount and detecting the
optical image of the reflected light obtained therefrom. Also included is
a display for displaying the optical image detected by this lighting and
detecting apparatus; an optical parameter setting device for setting and
displaying optical parameters for the lighting and detecting apparatus on
the display; and optical parameter adjusting apparatus for adjusting
optical parameters set for the lighting and detecting apparatus according
to the optical parameters set by the optical parameter setting apparatus;
a storage device for storing comparative image data; and a defect
detecting device for detecting defects from patterns formed on the sample
by comparing the optical image detected by the optical image detecting
apparatus with the comparative image data stored in the storage.
Een tekort het inspecteren apparaat wordt onthuld dat fijnere tekorten met hoge resolutie optische beelden van die tekorten kan ontdekken, en dat het verschil in tegenstelling tussen fijne lijnpatronen van een halfgeleiderapparaat groter maakt. Het tekort het inspecteren apparaat omvat een steekproef het opzetten apparaat om een steekproef op te zetten; aanstekend en ontdekkend apparaten om een gevormde steekproef te verlichten opgezet op een onderstel en het optische beeld van het weerspiegelde daarvan verkregen licht te ontdekken. Ook wordt een vertoning voor het tonen van het optische beeld omvat dat door dit het aansteken en het ontdekken apparaat wordt ontdekt; een optisch parameter het plaatsen apparaat om optische parameters te plaatsen en te tonen voor het aansteken en apparaten op de vertoning te ontdekken; en de optische parameter het aanpassen apparaten om optische parameters aan te passen plaatsen voor de het aansteken en het ontdekken apparaten volgens de optische parameters die door de optische parameter het plaatsen apparaten worden geplaatst; een opslaggelegenheid om vergelijkende beeldgegevens op te slaan; en een tekort dat apparaat om tekorten van patronen ontdekt te ontdekken vormde zich op de steekproef door het optische beeld dat door het optische beeld wordt ontdekt ontdekkend apparaten met de vergelijkende beeldgegevens te vergelijken die in de opslag worden opgeslagen.
