A practical system and method for measuring waveplate retardation. The
system employs a photoelastic modulator in an optical setup and provides
high sensitivity. The analysis is particularly appropriate for
quality-control testing of waveplates. The system is also adaptable for
slightly varying the retardation provided by a waveplate (or any other
retarder device) in a given optical setup. To this end, the waveplate
position may be precisely altered to introduce correspondingly precise
adjustments of the retardation values that the waveplate provides. The
system is further refined to permit one to compensate for errors in the
retardation measurements just mentioned. Such errors may be attributable
to static birefringence present in the optical element of the photoelastic
modulator that is incorporated in the system.
Un sistema y un método prácticos para medir el retraso del waveplate. El sistema emplea un modulador photoelastic en una disposición óptica y proporciona alta sensibilidad. El análisis es particularmente apropiado para la prueba del calidad-control de waveplates. El sistema es también adaptable para levemente variar el retraso proporcionado por un waveplate (o cualquier otro dispositivo del retardador) en una disposición óptica dada. Con este fin, la posición del waveplate se puede alterar exacto para introducir correspondientemente los ajustes exactos de los valores del retraso que el waveplate proporciona. El sistema se refina más a fondo para permitir que uno compense para los errores en las medidas del retraso apenas mencionadas. Tales errores pueden ser atribuibles a la birrefringencia estática presente en el elemento óptico del modulador photoelastic que se incorpora en el sistema.
