Method and laser system controlling breakdown process development and space structure of laser radiation for production of high quality laser-induced damage images

   
   

Embodiments of methods and an apparatus for creating points or areas of laser-induced damage inside a transparent material are disclosed. One or more embodiments of the invention comprise a method and system for producing etch points by control of breakdown process development. In one embodiment, at the beginning an applied laser radiation level just exceeds an energy threshold for creating a plasma condition in the material, and thereafter the energy level of the applied laser radiation is just maintain the plasma condition and is applied before the plasma condition extinguishes, but after a shock wave associated therewith has passed. Other embodiments of the invention comprise a method and a system for producing etch points by controlling a space structure of laser beam. According to the invention a laser generates a TEM.sub.mn radiation. The values of the integers m and n are controlled and determined so as to reproduce particular gray shades for a particular point of an image. Points or areas of laser-induced damage produced by these methods do have the traditional and undesirable star configuration. Furthermore, it is possible to control the brightness of these points without changing their size.

Показаны воплощения методов и прибора для создавать пункты или зоны лазер-navedennogo повреждения внутри прозрачного материала. One or more воплощения вымысла состоят из метода и системы для производить пункты etch управлением развития процесса нервного расстройства. В одном воплощении, на начале applied уровень радиации лазера как раз превышает порог энергии для создавать условие плазмы в материале, и в дальнейшем уровень энергии applied радиации лазера как раз поддерживает условие плазмы и приложен прежде чем условие плазмы тушит, но после того как ударная волна связанная therewith проходила. Другие воплощения вымысла состоят из метода и системы для производить пункты etch путем контролировать структуру космоса лазерныйа луч. Согласно вымыслу лазер производит радиацию TEM.sub.mn. Значения интежеров м и н controlled и determined для того чтобы воспроизвести определенные серые тени для определенного пункта изображения. Пункты или зоны лазер-navedennogo повреждения произвели этими методами имеют традиционную и нежелательную конфигурацию звезды. Furthermore, по возможности контролировать яркость этих пунктов без изменять их размер.

 
Web www.patentalert.com

< Electrically conductive resin composition and production process thereof

< Methods for manufacturing bioelectronic devices

> Filter layer for a display, a method of preparing a filter layer for a display and a display including a filter layer

> Semiconductor device with a semiconductor layer over a surface having a recess pitch no smaller than 0.3 microns

~ 00108