A method and system in metrology for integrated circuits, for incorporating
the effects of small metrology hardware-based and material-based parameter
variations into a library of simulated diffraction spectra. In a first
embodiment, a method is disclosed for determining metrology hardware
specification ranges that correspond to specified CD measurement accuracy.
In a second embodiment, a method for modifying a library of simulated
diffraction spectra for optimization to the particular parameters of a
specific piece of metrology hardware and specific material batches is
disclosed.
Um método e um sistema na metrologia para circuitos integrados, porque incorporar os efeitos da metrologia pequena ferragem-basearam e material-basearam variações do parâmetro em uma biblioteca de spectra simulados do diffraction. Em uma primeira incorporação, um método é divulgado determinando as escalas da especificação da ferragem da metrologia que correspondem à exatidão especificada da medida do CD. Em uma segunda incorporação, um método para modificar uma biblioteca de spectra simulados do diffraction para o optimization aos parâmetros particulares de uma parte específica de ferragem da metrologia e de grupos materiais específicos é divulgado.
