A cap layer structure is provided with a first layer composed of a metal
and a second cap layer composed of a metal oxide. The first cap layer
reflects conduction electrons back into the mean free path of conduction
electrons and the second cap layer protects the first cap layer from
subsequent processing steps without degrading the performance of the first
cap layer.
Una struttura di strato della protezione รจ fornita di un primo strato composto di metallo e di un secondo strato della protezione composto di ossido di metallo. Il primo strato della protezione riflette gli elettroni di conduzione nuovamente dentro il percorso libero medio degli elettroni di conduzione ed il secondo strato della protezione protegge il primo strato della protezione dalle fasi di lavorazione successive senza degradare le prestazioni del primo strato della protezione.
