An apparatus with one or more dimensions conforming to a wafer storage
cassette used in semiconductor manufacturing which contains all or part of
a sensor designed to measure a parameter of a wafer placed into the
cassette. The intended use of the apparatus is in a process tool location
normally occupied by a standard wafer cassette. By integrating all or part
of the sensor into standard wafer storage cassette, a solution is provided
whereby the same cassette and metrology system can be mechanically
integrated into many process tools.
Un apparecchio con una o più dimensioni adeguatamente ad un vassoio di immagazzinaggio della cialda utilizzato nel manufacturing a semiconduttore che contiene l'tutto o una parte di un sensore ha progettato misurare un parametro di una cialda disposta nel vassoio. L'uso progettato dell'apparecchio è in una posizione trattata dell'attrezzo occupata normalmente da un vassoio standard della cialda. Integrando l'tutto o una parte del sensore nel vassoio standard di immagazzinaggio della cialda, una soluzione è fornita per cui lo stesso sistema di metrologia e del vassoio può essere integrato meccanicamente in molti attrezzi trattati.
