In a lithographic apparatus the shape of the focal plane is adjusted using
available manipulators in the projection lens system so that it is in
closer conformity to the shape of the wafer surface in the exposure area.
The control of the focal plane shape can be integrated with the leveling
control which determines the height and tilt of the wafer surface.
Dans un appareil lithographique la forme de l'avion focal est ajustée à l'aide des manipulateurs disponibles dans le système d'objectif de projection de sorte qu'elle soit dans une conformité plus étroite à la forme de la surface de gaufrette dans le secteur d'exposition. La commande de la forme plate focale peut être intégrée avec la commande de mise à niveau qui détermine la taille et l'inclinaison de la surface de gaufrette.
