Accurate alignment can be attained irrespective of strains of the main body
structure. An exposure apparatus, which has a substrate stage (13, 15)
which holds and moves a substrate (18), a position measurement unit (14)
for measuring the position of the substrate stage, and a control unit (16)
for performing drive control of the substrate stage to align the substrate
on the basis of the measured position, and which aligns the substrate and
a master plate (2), and forms a pattern on the master plate on the
substrate by exposure, has a strain measurement unit (9) for measuring
strain of a structure (8) to which the position measurement unit is fixed,
and the control unit aligns the substrate by the drive control of the
stage in consideration of the measured strain.
Genaue Ausrichtung kann ungeachtet der Belastungen der Hauptkörperstruktur erreicht werden. Ein Belichtung Apparat, der ein Substratstadium (13, 15) hat das ein Substrat (18), eine Position Maßmaßeinheit (14) für das Messen der Position des Substratstadiums und eine Steuereinheit (16) für das Durchführen der Antrieb Steuerung des Substratstadiums, um das Substrat auf der Grundlage von die gemessene Position auszurichten hält und verschiebt und das das Substrat und eine Vorlagenplatte (2) ausrichtet und ein Muster auf der Vorlagenplatte auf dem Substrat durch Belichtung, hat eine Belastung Maßmaßeinheit (9) für messende Belastung einer Struktur (8) bildet, zu der die Position Maßmaßeinheit örtlich festgelegt ist, und die Steuereinheit richtet das Substrat durch aus die Antrieb Steuerung des Stadiums in der Betrachtung der gemessenen Belastung.
