A nano-imprinting method includes a process of transferring an embossed
pattern from a master plate (120) to a surface of a pattern-receiving or
donee substrate (130) by applying a pressure to the master plate (120)
having an information carrier region (120A) having formed the embossed
pattern and the donee substrate (139) from opposite sides of a pair of
press surfaces (100) sandwiching them. When the pressure is applied, a
buffer layer (110) shaped in accordance with the information carrier
region is interposed in a position aligned with a pattern-forming region
between the master plate or donee substrate and the press surface.
Une méthode de nano-imprinting inclut un processus de transférer un modèle de relief à partir d'un plat principal (120) à une surface d'un substrat de modèle-réception ou de donataire (130) en appliquant une pression au plat principal (120) ayant une région de porteur de l'information (120A) ayant formé le modèle de relief et du substrat de donataire (139) des côtés opposés d'une paire de surfaces de pression (100) les serrant. Quand la pression est appliquée, une couche d'amortisseur (110) formée selon la région de porteur de l'information est interposée en position alignée avec une région deformation entre le substrat principal de plat ou de donataire et la surface de pression.
