Method for producing thiosalicylic acid

   
   

The present invention relates to a method for causing sodium sulfide or a mixture of sodium sulfide and sulfur to react with diazonium salt formed by diazotizing anthranilic acid, wherein the Na/S atomic ratio as calculated on the basis of the employed sodium sulfide and sulfur is adjusted to within the range of 1.33 to 2.0 during the reaction. Thus is made practicable the manufacture of thiosalicylic acid in a high yield without going through the individual route of isolating and reducing dithiosalicylic acid.

La présente invention concerne une méthode pour faire réagir le sulfure de sodium ou un mélange de sulfure et de soufre de sodium avec du sel de diazonium constitué en diazotant l'acide anthranilique, où le rapport atomique de Na/S comme calculé sur la base du sulfure et du soufre utilisés de sodium est ajusté sur dans la gamme de 1.33 à 2.0 pendant la réaction. Ainsi est fait faisable la fabrication de l'acide thiosalicylic dans un rendement élevé sans passer par l'itinéraire individuel d'isoler et de réduire l'acide dithiosalicylic.

 
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< Method of manufacturing a contact of a semiconductor device using cluster apparatus having at least one plasma pretreatment module

< Amine organoborane complex initiated polymerizable compositions containing siloxane polymerizable components

> Laminated semiconductor substrate and optical semiconductor element

> Method for developing in hybrid developing apparatus

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