A gas treatment device, comprises a substrate disposed within a shell. The
substrate comprises a catalyst composition comprising a support, a
catalyst, and a sufficient amount of SMSI material such that, upon
exposure to a gas stream (at a gas treatment device operating
temperature), less than or equal to about 35 wt % of hydrocarbons in the
gas stream are burned.
A method for forming a gas treatment device, comprises applying a slurry to
a substrate, wherein the slurry comprises a support and a sufficient
amount of SMSI material such that, upon exposure to a gas stream at a gas
treatment device operating temperature, greater than or equal to about 50
wt % of hydrocarbons in the gas stream are cracked to a light fraction;
applying a catalyst to the substrate; calcining the catalyst; and
disposing the calcined substrate into a shell, with a retention material
disposed between the shell and the calcined substrate.
Un dispositivo di trattamento del gas, contiene un substrato disposto di all'interno delle coperture. Il substrato contiene una composizione nel catalizzatore che contiene un supporto, un catalizzatore e un importo sufficiente il materiale di SMSI tali che, su esposizione ad un flusso del gas (ad una temperatura di funzionamento del dispositivo di trattamento del gas), inferiore o uguale a circa 35 pesi % degli idrocarburi nel flusso del gas sono bruciati. Un metodo per formare un dispositivo di trattamento del gas, contiene l'applicazione dei residui ad un substrato, in cui i residui contengono un supporto e un importo sufficiente il materiale di SMSI tali che, su esposizione ad un flusso del gas ad una temperatura di funzionamento del dispositivo di trattamento del gas, superiore o uguale a circa 50 pesi % degli idrocarburi nel flusso del gas sono spezzati ad una frazione chiara; applicando un catalizzatore al substrato; calcinazione del catalizzatore; e disponendo del substrato calcinato nelle coperture, con un materiale di ritegno disposto di fra le coperture ed il substrato calcinato.
