The purpose of the invention is to provide a film formation apparatus
capable of forming an EL layer with a high purity and a high density, and
a cleaning method. The invention is a formation of an EL layer with a high
density by heating a substrate 10 by a heating means for heating a
substrate, decreasing the pressure of a film formation chamber with a
pressure decreasing means (a vacuum pump such as a turbo-molecular pump, a
dry pump, or a cryopump) connected to the film formation chamber to
5.times.10.sup.-3 Torr (0.665 Pa) or lower, preferably 1.times.10.sup.-3
Torr (0.133 Pa) or lower, and carrying out film formation by depositing
organic compound materials from deposition sources. In the film formation
chamber, cleaning of deposition masks is carried out by plasma.
Ο σκοπός της εφεύρεσης είναι να παρασχεθεί μια συσκευή σχηματισμού ταινιών ικανή ένα στρώμα EL μια υψηλή αγνότητα και μια υψηλή πυκνότητα, και μια μέθοδος καθαρισμού. Η εφεύρεση είναι ένας σχηματισμός ενός στρώματος EL με μια υψηλή πυκνότητα με τη θέρμανση ενός υποστρώματος 10 με μέσα θέρμανσης για ένα υπόστρωμα, που μειώνει την πίεση μιας αίθουσας σχηματισμού ταινιών με μειωμένος μέσα πίεσης (μια κενή αντλία όπως μια στροβιλο-μοριακή αντλία, μια ξηρά αντλία, ή ένα cryopump) που συνδέονται με την αίθουσα σχηματισμού ταινιών 5.τημες.10.σuπ.-3 torr (0,665 PA) ή χαμηλότερα, κατά προτίμηση 1.τημες.10.σuπ.-3 torr (0,133 PA) ή χαμηλότερος, και που πραγματοποιεί το σχηματισμό ταινιών με την κατάθεση των οργανικών σύνθετων υλικών από τις πηγές απόθεσης. Στην αίθουσα σχηματισμού ταινιών, ο καθαρισμός των μασκών απόθεσης πραγματοποιείται από το πλάσμα.
