An exposure apparatus includes a support for holding (i) a
pellicle-equipped reticle, the pellicle-equipped reticle including a
pellicle frame having an opening, and (ii) a nozzle disposed in an opposed
relation to the opening formed in the pellicle frame of the reticle held
on the support, the nozzle being used to substitute an inert gas for gas
in a pellicle space surrounding the reticle, the pellicle frame and a
pellicle film. By purging out air including impurities from the pellicle
space with the inert gas, a reduction in transmittance of exposure light
through the pellicle space can be suppressed and the exposure operation
can be performed with stability.
Un appareillage d'exposition inclut un soutien de la possession (i) un réticule pellicle-équipé, le réticule pellicle-équipé comprenant une armature de pellicle ayant une ouverture, et (ii) un bec a disposé dans une relation opposée à l'ouverture a formé dans l'armature de pellicle du réticule s'est tenu sur l'appui, le bec étant employé pour substituer un gaz inerte au gaz dans un espace de pellicle entourant le réticule, l'armature de pellicle et un film de pellicle. Par la purge hors de l'air comprenant des impuretés de l'espace de pellicle avec le gaz inerte, une réduction de la transmittance de lumière d'exposition par l'espace de pellicle peut être supprimée et l'opération d'exposition peut être effectuée avec la stabilité.
