A laser beam pointing and positioning system includes first and second
rotatable diffraction gratings. Each grating deviates a laser beam by a
predetermined angle of deviation. The relative rotational position of the
gratings is controlled to change the beam steering angle and direction of
a laser beam. A maximum beam steering angle of twice the angle of
deviation may be achieved in any direction. The diffraction gratings may
be etched on transmissive substrates of optical glass, sapphire, silicon
(Si), Zinc Selenide (ZnSe), Zinc Sulfide (ZnS), or Germanium (Ge). The
substrates may be positioned within rotary elements coupled respectively
to electromechanical positional control elements to rotate the gratings.
Zeige- und Navigationsanlage eines Laserstrahles schließt zuerst und an zweiter Stelle drehbare Beugungsgitter ein. Kratzendes jedes weicht ein Laserstrahl durch einen vorbestimmten Winkel der Abweichung ab. Die relative Rotationsposition der Vergitterungen wird gesteuert, um das Lichtstrahllenkungswinkel und die Richtung eines Laserstrahles zu ändern. Ein maximales Lichtstrahllenkungswinkel zweimal des Winkels der Abweichung kann in jeder möglicher Richtung erzielt werden. Die Beugungsgitter können auf transmissive Substraten des optischen Glases, des Saphirs, des Silikons (Silikon), des Zinkselenide (ZnSe), des Zink-Sulfids (ZnS) oder des Germaniums (GE) geätzt werden. Die Substrate können innerhalb der Drehelemente in Position gebracht werden, die beziehungsweise zu den elektromechanischen Positionssteuerelementen verbunden werden, um die Vergitterungen zu drehen.