A polymer comprising recurring units of formula (1-1) or (1-2) wherein
R.sup.1, R.sup.2, R.sup.3 and R.sup.4 are H or alkyl, or R.sup.1 and
R.sup.2, and R.sup.3 and R.sup.4 taken together may form a ring with each
pair being alkylene, and k is 0 or 1 and having a Mw of 1,000-500,000 is
novel. A resist composition comprising the polymer as a base resin is
sensitive to high-energy radiation, has excellent sensitivity, resolution,
etching resistance, and minimized swell and lends itself to
micropatterning with electron beams or deep-UV.
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Un polymère comportant les unités se reproduisantes de la formule (1-1) ou (1-2) où R.sup.1, R.sup.2, R.sup.3 et R.sup.4 sont H ou alkyl, ou R.sup.1 et R.sup.2, et R.sup.3 et R.sup.4 pris ensemble peuvent former un anneau avec chaque paire étant alkylène, et k est 0 ou 1 et avoir un Mw de 1.000-500.000 est roman. Une composition en résistance comportant le polymère comme résine basse est sensible au rayonnement de grande énergie, a l'excellente sensibilité, la résolution, gravant à l'eau-forte la résistance, et la bosse réduite au minimum et se prête à micropatterning avec des faisceaux d'électrons ou profond-UV. ## du ## STR1
