Photomask supply system with photomask production period shortened

   
   

Specification data including a method of measuring the dimension and mask design data for a photomask pattern is transmitted from an order-sender computer via a communication line. An element dimension calculating unit generates a measurement recipe according to the dimension-measurement method and the mask design data to transmit the measurement recipe to an element dimension measuring unit. The element dimension calculating unit calculates production error data of the pattern according to measurement data and the mask design data to transmit the error data to the order-sender via the communication line.

Данные по спецификации включая метод измерять размер и проектныа данные маски для картины photomask переданы от компьютера заказ-prislujnika через линияа связи. Блок размера элемента calculating производит recipe измерения согласно методу размер-izmereni4 и проектныа данные маски для того чтобы передать recipe измерения к измерительному блоку размера элемента. Блок размера природная стихия calculating высчитывает данные по ошибки продукции картины согласно данным по измерения и проектныа данные маски для того чтобы передать данные по ошибки к заказ-prislujniku через линияа связи.

 
Web www.patentalert.com

< Method and apparatus for scheduling work orders in a manufacturing process

< System, and method for online color algorithm exchange

> Real-time prediction and management of food product demand

> System and method for manufacturing semiconductor devices controlled by customer

~ 00136