In a MEMS device employing a beam supported by transverse arms, potential
bowing of the transverse arms caused by fabrication processes, temperature
or local self-heating from resistive losses is accommodated by flexible
terminations of the transverse arms. Alternatively, this bowing is
controlled so as to provide selective biasing to the beam or mechanical
advantage in the sensing of beam motion.
In einer MEMS Vorrichtung, die einen Lichtstrahl gestützt wird durch Querarme einsetzt, wird mögliche Verbeugung der Querarme, die durch Herstellung Prozesse verursacht werden, Temperatur oder lokales selbstheizendes von den widerstrebenden Verlusten durch flexible Endpunkte der Querarme untergebracht. Wechselweise ist diese Verbeugung kontrolliert, um das vorgewählte Beeinflussen zum Lichtstrahl oder mechanischen Wirkungsgrad in der Abfragung der Lichtstrahlbewegung zur Verfügung zu stellen.
