A photomask and a method for forming an opaque border on the same are
disclosed. In an example method of manufacturing a photomask, no more than
one patterning operation is used to form a mask field with an opaque
border substantially surrounding the mask field. The border region may be
substantially covered by an opaque material, and features in the mask
field may be free from the opaque material. When the photomask is used to
expose a pattern on an object, the opaque border may substantially prevent
electromagnetic radiation (EMR) from exposing portions of the object
outside the field of exposure associated with the mask field. The
operation of forming the mask field may include forming an insulating
clear region surrounding the features and leaving the border region
outside the insulating clear region. The opaque layer may be deposited by
electroplating or spraying an opaque material onto the border region.
Een photomask en een methode om een ondoorzichtige grens op het zelfde worden te vormen onthuld. In een voorbeeldmethode om een photomask te vervaardigen, wordt niet meer dan één die verrichting vormt gebruikt om een maskergebied met een ondoorzichtige grens te vormen die wezenlijk het maskergebied omringt. Het grensgebied kan wezenlijk door een ondoorzichtig materiaal worden omvat, en de eigenschappen op het maskergebied kunnen van het ondoorzichtige materiaal vrij zijn. Wanneer photomask wordt gebruikt om een patroon op een voorwerp bloot te stellen, kan de ondoorzichtige grens elektromagnetische straling (EMR) wezenlijk verhinderen gedeelten van het voorwerp buiten het gebied van blootstelling bloot te stellen verbonden aan het maskergebied. De verrichting van het vormen van het maskergebied kan het vormen van een isolerend duidelijk gebied omvatten dat de eigenschappen omringt en het grensgebied buiten het isolerende duidelijke gebied verlaat. De ondoorzichtige laag kan worden gedeponeerd door een ondoorzichtig materiaal op het grensgebied te galvaniseren of te bespuiten.
