Provided is a positive photosensitive resin composition comprising (A) a
polymer which has alicyclic hydrocarbon skeletons and composes under the
action of an acid to be rendered soluble in alkali, (B) a compound which
generates an acid upon irradiation with actinic rays, (C) a
nitrogen-containing basic compound, (D) at least one of a
fluorine-containing surfactant and a silicon-containing surfactant and (E)
a solvent. The composition can exhibit better characteristics when the
solvent (E) is a combination of specified solvents.
Desde que é uma composição photosensitive positiva da resina que compreende (A) um polímero que tenha os esqueletos alicyclic do hidrocarboneto e os componha sob a ação de um ácido a ser rendido soluble no alcalóide, (B) um composto que gere um ácido em cima do irradiation com raios actinic, (C) um composto básico nitrogen-containing, (D) ao menos um de um surfactant fluorine-containing e de um surfactant silicone-contendo e (E) um solvente. A composição pode exibir características melhores quando o (E) solvente é uma combinação de solventes especificados.
