A method for removing silicon oxide from a surface of a substrate is
disclosed. The method includes depositing material onto the silicon oxide
(110) and heating the substrate surface to a sufficient temperature to
form volatile compounds including the silicon oxide and the deposited
material (120). The method also includes heating the surface to a
sufficient temperature to remove any remaining deposited material (130).
Um método para remover o óxido do silicone de uma superfície de uma carcaça é divulgado. O método inclui o material depositando no óxido do silicone (110) e em aquecer a superfície da carcaça a uma temperatura suficiente dar forma a compostos temporários including o óxido do silicone e o material depositado (120). O método inclui também aquecer a superfície a uma temperatura suficiente para remover todo o material depositado restante (130).
