Photosensitive composition for manufacturing optical waveguide, production method thereof and polymer optical waveguide pattern formation method using the same

   
   

A photosensitive composition for optical waveguides comprising of an organic oligomer, a polymerization initiator and a crosslinking agent, the organic oligomer being a silicone oligomer represented by the following formula (1), wherein X denotes hydrogen, deuterium, halogen, an alkyl group or an alkoxy group; m is an integer from 1 to 5; x and y represent the proportion of respective units, and neither x nor y is 0; and R.sub.1 denotes a methyl, ethyl, or isopropyl group; a production method thereof, and a polymer optical waveguide pattern formation method using the same. ##STR1##

Een fotogevoelige samenstelling voor het optische golfgeleiders bestaan uit van organische oligomer, een polymerisatieinitiatiefnemer en een crosslinking agent, organische oligomer die siliconeoligomer zijn die door volgende formule (1) wordt vertegenwoordigd, waarin X waterstof, deuterium, halogeen, een alkyl groep of een alkoxy groep aanduidt; m is een geheel van 1 tot 5; x en y vertegenwoordig het aandeel respectieve eenheden, en noch zijn x noch y 0; en R.sub.1 duidt een methyl, een ethyl, of isopropyl groep aan; een productiemethode daarvan, en een methode die van de het patroonvorming van de polymeer optische golfgeleider het zelfde gebruiken. ## STR1 ##

 
Web www.patentalert.com

< Component and manufacture of a photo-catalyst

< Method of forming optical thin film

> SnO2 ISFET device, manufacturing method, and methods and apparatus for use thereof

> Process for preparing insulating material having low dielectric constant

~ 00139