An X-ray fluorescence film thickness measuring device has an X-ray
generating system generating and irradiating primary X-rays. A focusing
system focuses primary X-rays irradiated from the X-ray generating system
onto microscopic measurement regions in a sample. A sample observation
optical system is used to observe the sample during focusing of the
primary X-rays for use in positioning of the microscopic measurement
regions relative to the primary X-rays. A first sensor with low counting
efficiency but high energy resolution detects X-ray fluorescence generated
from a sample having the microscopic measurement regions. A second sensor
has low energy resolution but high counting efficiency compared to the
first sensor. Each of a pair of pre-amplifiers receives a signal from a
respective one of the first and second sensors.
Een X-ray de dikte meetinstrument van de fluorescentiefilm heeft een X-ray producerend systeem dat en primaire Röntgenstralen produceert bestraalt. Een concentrerend systeem concentreert primaire Röntgenstralen die van het X-ray producerende systeem op microscopische metingsgebieden worden bestraald in een steekproef. Een optisch systeem van de steekproefobservatie wordt gebruikt om de steekproef tijdens zich het concentreren van de primaire Röntgenstralen voor gebruik waar te nemen in het plaatsen van de microscopische metingsgebieden met betrekking tot de primaire Röntgenstralen. Een eerste sensor met lage tellende efficiency maar hoge energieresolutie ontdekt X-ray fluorescentie die van een steekproef wordt geproduceerd die de microscopische metingsgebieden heeft. Een tweede sensor heeft lage energieresolutie maar de hoge tellende efficiency vergeleek bij de eerste sensor. Elk van een paar voorversterkers ontvangt een signaal van een respectieve één van de eerste en tweede sensoren.
