A photolithography method and apparatus for producing minima of light
intensity corresponding to a point in a phase shift mask is described. The
phase shift in the light produced by the mask varies in a spiral fashion
around the point so that the phase shift measured along lines drawn across
the surface of the mask which pass through the point have a 180.degree.
jump at the point, and lines passing around the point have no jumps
between 130.degree. and 230.degree., and most preferably no jumps between
100.degree. and 260.degree..
Описаны метод и прибор фотолитографии для производить минимумы интенсивности света соответствуя к пункту в маске сдвига фазы. Сдвиг фазы в свете произвел маской меняет в спиральн способе вокруг пункта так НОП сдвиг фазы измерил вдоль линий нарисованных через поверхность маски проходят через пункт имеют 180.degree. поскачите на этап, и линии проходя вокруг пункта не имеют никакие скачки между 130.degree. и 230.degree., и most preferably никакие скачки между 100.degree. и 260.degree..
