An exposure apparatus includes a projection optical system for projecting a
pattern, which has been formed on a reticle, onto a photosensitive
substrate, wherein a projection region of the pattern, which region is
formed on the substrate via the projection optical system, is formed at a
position that is off-centered with respect to an optical axis of the
projection optical system, a substrate stage capable of holding and moving
the substrate, a substrate transport system for transporting the substrate
to the substrate stage, wherein the substrate transport system is disposed
on the side of the projection region with respect to the optical axis, and
the substrate transport system and the substrate stage are arranged in a
divided space which is purged with inert gas, and a position detection
system for detecting an alignment mark on the substrate.
Прибор выдержки вклюает проекцию оптически, котор система для проектировать картину, которая была сформирована на перекрещении, на фоточувствительный субстрат, при котором зона проекции картины, которую зоне формируют на субстрате через систему проекции оптически, сформирована на положении которое нецентрально по отношению к оптически оси системы проекции оптически, этапа субстрата способного держать и двигать субстрат, системы перехода субстрата для транспортировать субстрат к этапу субстрата, при котором система перехода субстрата размещана на стороне зоны проекции по отношению к оптически оси, и системы перехода субстрата и субстрата этап аранжирован в разделенном космосе продут с инертным газом, и системе обнаружения положения для обнаруживать метку выравнивания на субстрате.
