This invention is an instrument adaptable for integration into a process
tool the combines a number of instruments for surface characterization. As
an integrated process monitor, the invention is capable of monitoring
surface dishing, surface erosion and thickness of residue layers on
work-pieces with little time delay. The invention is adaptable to making
measurements while a wafer or work-piece is either wet or dry. A preferred
embodiment includes an integrated optical profiler adapted to surface
profiling in the presence of optical interference arising from
retro-reflections from underlying optical non-uniformities Alternate
embodiments include an integrated stylus profiler with vibration
isolation.
Esta invenção é um instrumento adaptable para a integração em uma ferramenta process as ligas um número de instrumentos para a caracterização de superfície. Porque um monitor process integrado, a invenção é capaz de monitorar a superfície que torna côncava, a erosão e a espessura de superfície de camadas do resíduo em work-pieces com pouca hora atrasam. A invenção é adaptable a fazer medidas quando um wafer ou um work-piece estiverem molhado ou seco. Uma incorporação preferida inclui um profiler ótico integrado adaptado à superfície que perfila na presença da interferência ótica que levanta-se das retro-reflexões das non-uniformidades que óticas subjacentes as incorporações alternas incluem um profiler integrado do estilete com isolação de vibração.
