A method and apparatus for detection of a particular material, such as
photo-resist material, on a sample surface. A narrow beam of light is
projected onto the sample surface and the fluoresced and/or reflected
light intensity at a particular wavelength band is measured by a light
detector. The light intensity is converted to a numerical value and
transmitted electronically to a logic circuit which determines the proper
disposition of the sample. The logic circuit controls a sample-handling
robotic device which sequentially transfers samples to and from a stage
for testing and subsequent disposition. The method is particularly useful
for detecting photo-resist material on the surface of a semiconductor
wafer.
Une méthode et un appareil pour la détection d'un matériel particulier, tel que le matériel de vernis photosensible, sur une surface témoin. Un faisceau de lumière étroit est projeté sur la surface témoin et l'intensité de la lumière produite par fluorescence et/ou reflétée à une bande particulière de longueur d'onde est mesurée par un détecteur léger. L'intensité de la lumière est convertie en valeur numérique et électroniquement transmise à un circuit logique qui détermine la disposition appropriée de l'échantillon. Le circuit logique commande un dispositif robotique demanipulation qui transfère séquentiellement des échantillons à et d'une étape pour l'essai et la disposition suivante. La méthode est particulièrement utile pour détecter le matériel de vernis photosensible sur la surface d'une gaufrette de semi-conducteur.
