A titanium layer is formed on a substrate with chemical vapor deposition
(CVD). First, a seed layer is formed on the substrate by combining a first
precursor with a reducing agent by CVD. Then, the titanium layer is formed
on the substrate by combining a second precursor with the seed layer by
CVD. The titanium layer is used to form contacts to active areas of
substrate and for the formation of interlevel vias.
Ένα στρώμα τιτανίου διαμορφώνεται σε ένα υπόστρωμα με την απόθεση χημικού ατμού (cvd). Κατ' αρχάς, ένα στρώμα σπόρου διαμορφώνεται στο υπόστρωμα με το συνδυασμό ενός πρώτου προδρόμου με έναν μειώνοντας πράκτορα από cvd. Κατόπιν, το στρώμα τιτανίου διαμορφώνεται στο υπόστρωμα με το συνδυασμό ενός δεύτερου προδρόμου με το στρώμα σπόρου από cvd. Το στρώμα τιτανίου χρησιμοποιείται για να διαμορφώσει τις επαφές στις ενεργές περιοχές του υποστρώματος και για το σχηματισμό των vias interlevel.
