Acetal protected polymers and photoresists compositions thereof

   
   

A polymer comprises an acetal-containing monomer unit having the general structure I and at least one of the fluorine-containing monomer units having the general structures II and III: ##STR1## wherein R.sup.1, R.sup.4, R.sup.5 and R.sup.6 are each independently H, lower alkyl, CH.sub.2 CO.sub.2 R.sup.10, cyano, CH.sub.2 CN, or halogen, wherein R.sup.10 is any alkyl, cycloalkyl, aryl, arylalkyl, alkylenecycloalkyl, silyl or siloxy or linear or cyclic polysiloxane group; R.sup.2 is CHR.sup.11 R.sup.12 where R.sup.11 and R.sup.12 are each independently H, lower alkyl, cycloalkyl or aryl; A is a substituted or unsubstituted alkylene, cycloalkylene, alkylenecycloalkylene, or alkylenearylene; and R.sup.3 is linear, branched or cyclic fluoroalkyl group or SiR.sup.13 R.sup.14 R.sup.15 where R.sup.13, R.sup.14, and R.sup.15 are each independently alkyl, cycloalkyl, aryl, arylalkyl, alkylenecycloalkyl, silyl, siloxy, linear or cyclic polysiloxane or silsesquioxane alkyl group; B is an aryl, C(.dbd.O)--O--(CH.sub.2).sub.x where x=0-4, lower alkyl, cycloalkyl, alkene cycloalkyl, silyl, siloxyl, or linear or cyclic polysiloxane group. R.sup.7 is H or an acid sensitive group; R.sup.8 and R.sup.9 are each independently H or --CN group; and y=0-4 and the use of these polymers in radiation sensitive compositions for exposure to actinic radiation, especially radiation of 157 nm.

Um polímero compreende uma unidade acetal-contendo do monomer que tem a estrutura geral I e ao menos uma das unidades fluorine-containing do monomer que têm as estruturas do general II e III: ## do ## STR1 wherein R.sup.1, R.sup.4, R.sup.5 e R.sup.6 são cada um independentemente H, um alkyl mais baixo, uns CH.sub.2 CO.sub.2 R.sup.10, cyano, uns CH.sub.2 CN, ou um halogênio, wherein R.sup.10 é qualquer alkyl, cycloalkyl, arilo, arylalkyl, alkylenecycloalkyl, silyl ou siloxy ou grupo linear ou cíclico do polysiloxane; R.sup.2 é CHR.sup.11 R.sup.12 onde R.sup.11 e R.sup.12 são cada um independentemente H, um alkyl mais baixo, um cycloalkyl ou um arilo; A é um alkylene, um cycloalkylene, um alkylenecycloalkylene, ou um alkylenearylene substituído ou unsubstituted; e R.sup.3 é o grupo linear, ramificado ou cíclico do fluoroalkyl ou o SiR.sup.13 R.sup.14 R.sup.15 onde R.sup.13, R.sup.14, e R.sup.15 são cada independentemente grupo alkyl do alkyl, do cycloalkyl, do arilo, do arylalkyl, do alkylenecycloalkyl, do silyl, do siloxy, o linear ou o cíclico do polysiloxane ou do silsesquioxane; B é um arilo, C(.dbd.O) -- O -- (CH.sub.2).sub.x onde x=0-4, um alkyl mais baixo, um cycloalkyl, cycloalkyl alkene, silyl, siloxyl, ou grupo linear ou cíclico do polysiloxane. R.sup.7 é H ou um grupo sensível ácido; R.sup.8 e R.sup.9 são cada um independentemente H ou grupo de --CN; e y=0-4 e o uso destes polímeros em composições sensíveis da radiação para a exposição à radiação actinic, especial radiação de 157 nm.

 
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