Anthracene derivative and radiation-sensitive resin composition

   
   

A novel anthracene derivative useful as an additive to a radiation-sensitive resin composition is disclosed. The anthracene derivative has the following formula (1), ##STR1## wherein R.sup.1 groups individually represent a hydroxyl group or a monovalent organic group having 1-20 carbon atoms, n is an integer of 0-9, X is a single bond or a divalent organic group having 1-12 carbon atoms, and R.sup.2 represents a monovalent acid-dissociable group. The radiation-sensitive resin composition comprises the anthracene derivative of the formula (1), a resin insoluble or scarcely soluble in alkali, but becomes alkali soluble in the presence of an acid, and a photoacid generator. The composition is useful as a chemically-amplified resist for microfabrication utilizing deep ultraviolet rays, typified by a KrF excimer laser and ArF excimer laser.

Показано полезное anthracene романа производеное как добавка к радиационночувствительному составу смолаы. Производный anthracene имеет following формулу (1), ## ## STR1 при котором группы R.sup.1 индивидуально представляют группу гидроксила или моновалентную органическую группу имея атомы 1-20 углерода, н будет интежером 0-9, х будет одиночным скреплением или divalent органической группой имея атомы 1-12 углерода, и R.sup.2 представляет моновалентную группу kisloty-dissociable. Радиационночувствительный состав смолаы состоит из производного anthracene формулы (1), смолаы неразрешимой или вряд soluble в алкалие, но будет soluble алкалиа in the presence of кислота, и генератором photoacid. Состав полезн по мере того как химически-usilennoe сопротивляет для microfabrication используя глубокие ультрафиолетов лучи, после того как оно типизировано лазером лазера excimer KrF и excimer ArF.

 
Web www.patentalert.com

< Phosphor panel with a protective layer

< Radioactive electron emitting microchannel plate

> Apparatus and method for scribing semiconductor wafers using vision recognition

> Acetal protected polymers and photoresists compositions thereof

~ 00151