A novel anthracene derivative useful as an additive to a
radiation-sensitive resin composition is disclosed. The anthracene
derivative has the following formula (1),
##STR1##
wherein R.sup.1 groups individually represent a hydroxyl group or a
monovalent organic group having 1-20 carbon atoms, n is an integer of 0-9,
X is a single bond or a divalent organic group having 1-12 carbon atoms,
and R.sup.2 represents a monovalent acid-dissociable group. The
radiation-sensitive resin composition comprises the anthracene derivative
of the formula (1), a resin insoluble or scarcely soluble in alkali, but
becomes alkali soluble in the presence of an acid, and a photoacid
generator. The composition is useful as a chemically-amplified resist for
microfabrication utilizing deep ultraviolet rays, typified by a KrF
excimer laser and ArF excimer laser.
Показано полезное anthracene романа производеное как добавка к радиационночувствительному составу смолаы. Производный anthracene имеет following формулу (1), ## ## STR1 при котором группы R.sup.1 индивидуально представляют группу гидроксила или моновалентную органическую группу имея атомы 1-20 углерода, н будет интежером 0-9, х будет одиночным скреплением или divalent органической группой имея атомы 1-12 углерода, и R.sup.2 представляет моновалентную группу kisloty-dissociable. Радиационночувствительный состав смолаы состоит из производного anthracene формулы (1), смолаы неразрешимой или вряд soluble в алкалие, но будет soluble алкалиа in the presence of кислота, и генератором photoacid. Состав полезн по мере того как химически-usilennoe сопротивляет для microfabrication используя глубокие ультрафиолетов лучи, после того как оно типизировано лазером лазера excimer KrF и excimer ArF.
