A substrate treating apparatus has an antireflection film forming block, a
resist film forming block and a developing block arranged in
juxtaposition, each of these blocks including treating modules and a
single main transport mechanism. The main transport mechanism transports
substrates within each block, and transfers the substrates between the
blocks through inlet substrate rests and outlet substrate rests provided
as separate components. This construction realizes improved throughput of
the substrate treating apparatus.
Un substrato che tratta l'apparecchio ha una pellicola di antiriflessione formare il blocco, una pellicola di resistenza che forma il blocco e un blocco di sviluppo organizzato nella giustapposizione, ciascuno di questi blocchi compreso trattare i moduli e un singolo meccanismo principale di trasporto. Il meccanismo principale di trasporto trasporta i substrati all'interno di ogni blocco e trasferisce i substrati fra i blocchi con i resti del substrato dell'ingresso ed i resti del substrato della presa forniti come componenti separati. Questa costruzione realizza il rendimento migliorato del substrato che tratta l'apparecchio.
