In accordance with some embodiments of the present invention, while a Bragg
grating is being written in a substrate, measurements may be taken to
allow changes to be made in the writing process to reduce errors that may
occur in the written grating. In one embodiment, multiple scans of the
writing beam can be used. After a scan, measurements of the
characteristics of the grating being written can be taken and corrections
may be implemented on subsequent scans.
In Übereinstimmung mit einigen Verkörperungen der anwesenden Erfindung, während eine Bragg Vergitterung in ein Substrat geschrieben wird, können Maße genommen werden, um zu erlauben, daß Änderungen im Schreiben Prozeß vorgenommen werden, um Störungen zu verringern, die in der schriftlichen Vergitterung auftreten können. In einer Verkörperung können mehrfache Scans des Schreiben Lichtstrahls verwendet werden. Nachdem ein Scan, Maße der Eigenschaften der Vergitterung, die geschrieben wird, genommen werden kann und Korrekturen können auf folgenden Scans eingeführt werden.
