A method for forming a metal compound film includes alternate irradiation
of an organometal compound and oxygen or nitrogen radicals to deposit
monoatomic layers of the metal compound. The organometal compound includes
zirconium, hafnium, lanthanide compounds. The resultant film includes
little residual carbon and has excellent film characteristic with respect
to leakage current.
Метод для формировать пленку смеси металла вклюает другое облучение смеси organometal и радикалов кислорода или азота для того чтобы депозировать monoatomic слои смеси металла. Смесь organometal вклюает цирконий, гафний, смеси лантаноида. Возникающая пленка вклюает меньший остаточный углерод и имеет превосходную пленку характерную по отношению к течению утечки.
