A footprint (an area on a plane necessary for processing) of a laser
irradiation apparatus for moving a stage supporting thereon a substrate in
X and Y direction becomes unavoidably large when the substrate becomes
greater in size, and the apparatus becomes very great as a whole. In a
laser irradiation apparatus of the invention, a galvanomirror or a polygon
mirror irradiates and scans a laser beam to and on a semiconductor film
and always keeps an angle .theta. of incidence of the laser beam to the
semiconductor film at a certain angle.
Un'orma (una zona su un aereo necessario per procedere) di un'apparecchiatura di irradiazione del laser per lo spostamento della fase che sostiene su ciò un substrato nel senso di Y e di X diventa inevitabilmente grande quando il substrato diventa più grande nel formato e l'apparecchio diventa molto grande nell'insieme. In un'apparecchiatura di irradiazione del laser dell'invenzione, un galvanomirror o i irradiates e le esplorazioni dello specchio di poligono un fascio laser a e su un semiconduttore filmano e sempre mantiene un theta di angolo. dell'incidenza del fascio laser alla pellicola a semiconduttore ad un determinato angolo.
