A process of forming a nitride film on a semiconductor substrate including
exposing a surface of the substrate to a rapid thermal process to form the
nitride film.
Ein Prozeß der Formung eines Nitridfilmes auf einem Halbleitersubstrat einschließlich das Aussetzen einer Oberfläche des Substrates einem schnellen thermischen Prozeß, um den Nitridfilm zu bilden.
