Throughput in a semiconductor wafer processing system, such as in-line
photolithography equipment, is improved by identifying and correcting
bottlenecks in the flow of wafers through multiple, associative segments
of the equipment. Segmental rather than total processing times are
monitored in order to identify the segments having the longest processing
times. The theory of constraints is applied to identify the process
segment representing a bottleneck in the process, and effect improvements
in the bottleneck segment that provide greater overall throughput.
El rendimiento de procesamiento en un sistema de proceso de la oblea de semiconductor, tal como equipo en línea de la fotolitografía, es mejorado identificando y corrigiendo embotellamientos en el flujo de obleas con los segmentos múltiples, sociables del equipo. Segmentario más bien que los tiempos de transformación totales se supervisan para identificar los segmentos que tienen los tiempos de transformación más largos. La teoría de apremios se aplica para identificar el segmento de proceso que representa un embotellamiento en el proceso, y las mejoras del efecto en el embotellamiento dividen en segmentos que proporcionan mayor rendimiento de procesamiento total.
