A method of depositing a platinum based metal film by CVD deposition
includes bubbling a non-reactive gas over an organic platinum based metal
precursor until the non-reactive gas is saturated with the precursor. The
platinum based metal film is deposited onto a substrate in a CVD
deposition chamber in the presence of both oxygen and nitrous oxide at a
predetermined temperature and under a predetermined pressure. The
resulting film is consistently smooth and has good step coverage.
Une méthode de déposer un film de métal non précieux de platine par le dépôt de CVD inclut le bouillonnement un gaz non-réactif au-dessus d'un précurseur organique de métal non précieux de platine jusqu'à ce que le gaz non-réactif soit saturé avec le précurseur. Le film de métal non précieux de platine est déposé sur un substrat dans une chambre de dépôt de CVD en présence de l'oxygène et du protoxyde d'azote à une température prédéterminée et sous une pression prédéterminée. Le film résultant est uniformément lisse et a la bonne assurance d'étape.
