Method and application of metrology and process diagnostic information for improved overlay control

   
   

A method for operation of an exposure tool in the fabrication of an integrated circuit to control registration between a preceding layer of and a succeeding layer. The preceding layer having a first alignment mark and a first registration mark. The succeeding layer is aligned to the preceding layer using an exposure tool. The succeeding layer has a second alignment mark and a second registration mark. The exposure tool measures alignment of the first alignment mark relative to the second alignment mark. After additional process steps are performed, a measurement tool measures registration relating to relative positions of the first registration mark and the second registration mark. Both the alignment information from the exposure tool and the registration information from the measurement tool is analyzed to determine corrections to improve registration between the layers, and the operation of the exposure tool is altered to improve registration.

Метод для деятельности инструмента выдержки в изготовлении интегрированной цепи для того чтобы контролировать зарегистрирование между предшествующим слоем и преуспевая слоем. Предшествующий слой имея первую метку выравнивания и первую метку зарегистрирования. Преуспевая слой выровнян к предшествующему слою использующ инструмент выдержки. Преуспевая слой имеет вторую метку выравнивания и вторую метку зарегистрирования. Инструмент выдержки измеряет выравнивание первой метки выравнивания по отношению к второй метке выравнивания. После того как дополнительные отростчатые шаги выполнены, инструмент измерения измеряет зарегистрирование relating to относительные положения первой метки зарегистрирования и второй метки зарегистрирования. И данные по выравнивания от инструмента выдержки и данные по зарегистрирования от инструмента измерения проанализированы для того чтобы обусловить коррекции для того чтобы улучшить зарегистрирование между слоями, и деятельность инструмента выдержки изменена для того чтобы улучшить зарегистрирование.

 
Web www.patentalert.com

< Micromirrors and off-diagonal hinge structures for micromirror arrays in projection displays

< Semiconductor memory array of floating gate memory cells with control gate spacer portions

> Method and apparatus for determining wafer quality profiles

> Method for manufacturing an optical device with a defined total device stress

~ 00167