In a method for cleaning for cleaning metallic ion contamination, and
especially copper, from wafer containers, the containers are loaded into a
cleaning apparatus. The containers are sprayed with a dilute chelating
agent solution. The chelating agent solution removes metallic
contamination from the containers. The containers are then rinsed with a
rinsing liquid, such as deionized water and a surfactant. The containers
are then dried, preferably by applying heat and/or hot air movement.
В методе для очищать для загрязнения иона чистки металлического, и специально меди, от контейнеров вафли, контейнеры нагружены в прибор чистки. Контейнеры распылены с dilute разрешением хелатируя вещества. Разрешение хелатируя вещества извлекает металлическое загрязнение от контейнеров. Контейнеры после этого прополосканы с полоща жидкостью, such as деионизированная вода и сурфактант. Контейнеры после этого высушены, предпочтительн путем прикладывать жару and/or движение горячего воздуха.
