There is disclosed a method of producing a diamond film formed on a
substrate, wherein at least after a film (dopant layer) containing doping
elements is formed on a surface of the substrate, a vapor phase synthetic
diamond film is formed on the dopant layer, and the dopant layer contains
diamond particles, which become sources of diamond nuclei, in addition to
doping elements, and also disclosed a diamond film produced by the method.
There can be provided a method of producing a diamond film that a diamond
film having lowered electric resistance can be produced, and also provided
a diamond film produced by the method.
Wird einer Methode des Produzierens eines Diamantfilmes freigegeben, der auf einem Substrat gebildet wird, worin mindestens nach einem Film (Dopantschicht) das Enthalten, wird gebildet Elemente lackierend, auf einer Oberfläche des Substrates, eine Dampfphase, die synthetischer Diamantfilm auf der Dopantschicht gebildet wird, und die Dopantschicht enthält Diamantpartikel, die Quellen der Diamantkerne, zusätzlich zum Lackieren der Elemente werden und auch einen Diamantfilm freigaben, der durch die Methode produziert wird. Dort können zur Verfügung gestellt werden einer Methode des Produzierens eines Diamantfilmes, daß ein Diamantfilm, der elektrischen Widerstand gesenkt wird, produziert werden kann, und lieferten auch einen Diamantfilm, der durch die Methode produziert wird.
