A substrate processing apparatus includes a chamber, a gas introducing
portion, a gas discharge port, a substrate transfer gate, and a substrate
moving member which moves the substrate between a substrate processing
position where the substrate is processed in the chamber and a substrate
transferring in-out position in the chamber where the substrate
transferred into the chamber from the substrate transfer gate is located
and where the substrate is located when the substrate is transferred out
from the chamber through the substrate transfer gate. The gas introducing
portion, the substrate processing position, the gas discharge port and the
substrate transfer gate are disposed in this order. A gas restraining
member which restrains processing gas for processing the substrate from
flowing toward the substrate transfer gate is provided between the gas
discharge port and the substrate transfer gate.
Μια συσκευή επεξεργασίας υποστρωμάτων περιλαμβάνει μια αίθουσα, μια αέριο εισάγοντας μερίδα, αέριο απαλλάξτε το λιμένα, μια πύλη μεταφοράς υποστρωμάτων, και ένα κινούμενο μέλος υποστρωμάτων που κινούν το υπόστρωμα μεταξύ μιας θέσης επεξεργασίας υποστρωμάτων όπου το υπόστρωμα υποβάλλεται σε επεξεργασία στην αίθουσα και ένα υπόστρωμα μεταφέροντας-ΈΞΩ τη θέση στην αίθουσα όπου το υπόστρωμα που μεταφέρεται στην αίθουσα από την πύλη μεταφοράς υποστρωμάτων βρίσκεται και πού το υπόστρωμα βρίσκεται όταν μεταφέρεται έξω το υπόστρωμα από την αίθουσα μέσω της πύλης μεταφοράς υποστρωμάτων. Η αέριο εισάγοντας μερίδα, η θέση επεξεργασίας υποστρωμάτων, αέριο απαλλάσσει το λιμένα και η πύλη μεταφοράς υποστρωμάτων διατίθεται σε αυτήν την διαταγή. Ένα αέριο σταματώντας μέλος που σταματά να επεξεργαστεί αέριο για την επεξεργασία του υποστρώματος από τη ροή προς την πύλη μεταφοράς υποστρωμάτων παρέχεται μεταξύ απαλλάσσει αέριο το λιμένα και την πύλη μεταφοράς υποστρωμάτων.
