A semiconductor processing workpiece support which includes a detection subsystem that detects whether a wafer or other workpiece is present. The preferred arrangement uses an optical beam emitter and an optical beam detector mounted along the back side of a rotor which acts as a workpiece holder. The emitted beam passes through the workpiece holder and is reflected by any workpiece present in the Workpiece holder. The preferred units include both an optical emitter and pair of detectors. The detection is preferably able to discriminate on the basis of the angle of the reflected beam, so that a portion of the beam reflected by the workpiece holder is not considered or minimized.

Un semiconductor que procesa la ayuda del objeto que incluye un subsistema de la detección que detecte si la oblea o el otro objeto está presente. El arreglo preferido utiliza un emisor óptico de la viga y un detector óptico de la viga montados a lo largo del lado trasero de un rotor que actúe como sostenedor del objeto. La viga emitida pasa a través del sostenedor del objeto y es reflejada por cualquier objeto presente en el sostenedor del objeto. Las unidades preferidas incluyen un emisor óptico y el par de detectores. La detección puede preferiblemente discriminar en base del ángulo de la viga reflejada, para no considerar ni se reduzca al mínimo una porción de la viga reflejada por el sostenedor del objeto.