An object of the present invention is to reduce variance in the flow rates of source gasses and inconsistency in the mixing ratio of the source gasses when the flow paths of the source gasses are switched in a vent/run-type piping system of a vapor deposition apparatus. In a vapor deposition apparatus, a run line for mixing one or more sources with a carrier gas and for supplying the resultant gas to a vapor deposition region; a vent line for allowing the sources to detour away from the vapor deposition region and exhausting the sources; and a mechanism for switching the paths of the sources from the vapor deposition region to the vent line are provided. The paths of the sources are switched from the vent line to the vapor deposition region when the mixing ratio of the sources becomes consistent in the run line.

Ein Gegenstand der anwesenden Erfindung ist, Abweichung in den Strömungsgeschwindigkeiten der Quellgase und Unbeständigkeit im mischenden Verhältnis der Quellgase zu verringern, wenn die Flußwege der Quellgase in ein vent/run-type friedliches System eines Dampfabsetzungapparates geschaltet werden. In einem Dampfabsetzungapparat, in einer Durchlauflinie für das Mischen von von einer oder mehr Quellen mit einem Fördermaschinegas und für das Liefern des resultierenden Gases an eine Dampfabsetzungregion; ein Entlüftungsrohr für das Lassen der Quellen weg von der Dampfabsetzungregion umleiten und das Erschöpfen der Quellen; und eine Einheit für das Schalten der Wege der Quellen von der Dampfabsetzungregion zum Entlüftungsrohr werden zur Verfügung gestellt. Die Wege der Quellen werden vom Entlüftungsrohr zur Dampfabsetzungregion geschaltet, wenn das mischende Verhältnis der Quellen in der Durchlauflinie gleichbleibend wird.