A method for processing a semiconductor wafer or similar article includes
the step of spinning the wafer and applying a fluid to a first side of the
wafer, while it is spinning. The fluid flows radially outwardly in all
directions, over the first side of the wafer, via centrifugal force. As
the fluid flows off of the circumferential edge of the wafer, it is
contained in an annular reservoir, so that the fluid also flows onto an
outer annular area of the second side of the wafer. An opening allows
fluid to flow out of the reservoir. The opening defines the location of a
parting line beyond which the fluid will not travel on the second side of
the wafer. An apparatus for processing a semiconductor wafer or similar
article includes a reactor having a processing chamber formed by upper and
lower rotors. The wafer is supported between the rotors. The rotors are
rotated by a spin motor. A processing fluid is introduced onto the top or
bottom surface of the wafer, or onto both surfaces, at a central location.
The fluid flows outwardly uniformly and in all directions. A wafer support
automatically lifts the wafer, so that it can be removed from the reactor
by a robot, when the rotors separate from each other after processing.
Une méthode pour traiter une gaufrette ou un article semblable de semi-conducteur inclut l'étape de tourner la gaufrette et d'appliquer un fluide à un premier côté de la gaufrette, alors qu'elle tourne. Le fluide entre radialement extérieurement dans toutes les directions, au-dessus du premier côté de la gaufrette, par l'intermédiaire de la force centrifuge. Pendant que les flux de fluide au loin du bord circulaire de la gaufrette, il est contenus dans un réservoir annulaire, de sorte que le fluide coule également sur un secteur annulaire externe du verso de la gaufrette. Une ouverture permet au fluide de sortir du réservoir. L'ouverture définit l'endroit d'une ligne médiane au delà de laquelle le fluide ne voyagera pas du verso de la gaufrette. Un appareil pour traiter une gaufrette ou un article semblable de semi-conducteur inclut un réacteur faisant constituer une chambre de traitement par les rotors supérieurs et inférieurs. La gaufrette est soutenue entre les rotors. Les rotors sont tournés par un moteur de rotation. Un fluide de traitement est présenté sur le fond supérieur ou de la gaufrette, ou sur les deux surfaces, à un endroit central. Les flux de fluide extérieurement uniformément et dans toutes les directions. Un appui de gaufrette soulève automatiquement la gaufrette, de sorte qu'il puisse être enlevé du réacteur par un robot, quand les rotors séparé de l'un l'autre après traitement.
