An automated and integrated substrate inspecting apparatus for performing
an EBR/EEW inspection, a defect inspection of patterns and reticle error
inspection of a substrate includes a first stage for supporting a
substrate; a first image acquisition unit for acquiring a first image of
a peripheral portion of the substrate supported by the first stage; a
second stage for supporting the substrate; a second image acquisition
unit for acquiring a second image of the substrate supported by the
second stage; a transfer robot for transferring the substrate between the
first stage and the second stage; and a data processing unit, connected
to the first image acquisition unit and the second image acquisition
unit, for inspecting results of an edge bead removal process and an edge
exposure process performed on the substrate using the first image, and
for inspecting for defects of patterns formed on the substrate using the
second image.
Un substrato automatizado e integrado que examina el aparato para realizar una inspección de EBR/EEW, una inspección del defecto de patrones y la inspección del error del retículo de un substrato incluye una primera etapa para apoyar un substrato; una primera unidad de la adquisición de la imagen para adquirir una primera imagen de una porción periférica del substrato apoyado por la primera etapa; una segunda etapa para apoyar el substrato; una segunda unidad de la adquisición de la imagen para adquirir una segunda imagen del substrato apoyado por la segunda etapa; una robusteza de la transferencia para transferir el substrato entre la primera etapa y la segunda etapa; y una unidad de proceso de datos, conectada con la primera unidad de la adquisición de la imagen y la segunda unidad de la adquisición de la imagen, porque la inspección de resultados de un borde rebordea proceso del retiro y un proceso de la exposición del borde realizado en el substrato usando la primera imagen, y para examinar para los defectos de los patrones formados en el substrato usando la segunda imagen.
