A semiconductor processing workpiece support which includes a detection
subsystem that detects whether a wafer or other workpiece is present. The
preferred arrangement uses an optical beam emitter and an optical beam
detector mounted along the back side of a rotor which acts as a workpiece
holder. The emitted beam passes through the workpiece holder and is
reflected by any workpiece present in the workpiece holder. The preferred
units include both an optical emitter and pair of detectors. The detection
is preferably able to discriminate on the basis of the angle of the
reflected beam, so that a portion of the beam reflected by the workpiece
holder is not considered or minimized.
Um semicondutor que processa a sustentação do workpiece que inclui um subsistema da deteção que detecte se um wafer ou o outro workpiece estão atual. O arranjo preferido usa um emissor ótico do feixe e um detetor ótico do feixe montados ao longo do lado traseiro de um rotor que aja como um suporte do workpiece. O feixe emissor passa através do suporte do workpiece e é refletido por todo o workpiece atual no suporte do workpiece. As unidades preferidas incluem um emissor ótico e o par dos detetores. A deteção pode preferivelmente discriminar na base do ângulo do feixe refletido, de modo que uma parcela do feixe refletido pelo suporte do workpiece não seja considerada nem não seja minimizada.
