A substrate-processing method includes at least (a) a step of delivering a
web substrate and an interleaf from a substrate delivery bobbin provided
in a substrate delivery chamber while the web substrate is transported
into a substrate-processing chamber and the interleaf delivered is wound
on an interleaf takeup bobbin, and (b) a step of subjecting the web
substrate transported into the substrate-processing chamber to desired
processing in the substrate-processing chamber. The web substrate
processed in the substrate-processing chamber is transported outside the
substrate-processing chamber, and transport abnormality of the interleaf
in the substrate delivery chamber is detected by a transport
abnormality-detecting mechanism.
Un metodo d'elaborazione include almeno (a) un punto di trasporto del substrato di fotoricettore e un interleaf da una bobina di consegna del substrato ha fornito in un alloggiamento di consegna del substrato mentre il substrato di fotoricettore è trasportato in un alloggiamento d'elaborazione ed il interleaf trasportato è ferito su una bobina del takeup del interleaf e (b) un punto di soggetto del substrato di fotoricettore ha trasportato nell'alloggiamento d'elaborazione all'elaborazione voluta nell'alloggiamento d'elaborazione. Il substrato di fotoricettore proceduto nell'alloggiamento d'elaborazione è parte esterna trasportata l'alloggiamento d'elaborazione e l'anomalia di trasporto del interleaf nell'alloggiamento di consegna del substrato è rilevata da un meccanismo dirilevazione di trasporto.
